尊敬的新老客户您好，本公司国庆放假通知如下：2025年10月1日- 10月8日，10月9日正式上班，因放假期间带来的不便，敬请谅解！若情况紧急，可添加段经理微信留言，谢谢配合！
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美国能源部橡树岭国家实验室（ORNL）YijingStehle等人开发出一种新的工艺，能够制备出几乎完美的单层六方氮化硼。这种材料具有优秀的物理化学特性，如果和石墨烯搭配成为极薄且透明的材料，有可能应用在下一代超薄电子设备中，如手机、平板电脑、笔记本电脑等。
单原子层的六方氮化硼又被称为“白石墨烯”，与石墨烯相比，具有更高透明度和化学惰性，而且具有很高的机械强度、高熔点、高热导率，以及极低的摩擦系数等性质。更重要的是，石墨烯是导体，而“白石墨烯”是良好的绝缘体，如果以“白石墨烯”为衬底沉积石墨烯，其电子迁移率将是在其他衬底上的数千倍，能够充分发挥出其潜力。
此前的理论研究包含了多种六方氮化硼单晶形态（包括六角和三角）的制备方法，Stehle等人首次证明和解释了这一工艺，制备出了高质量的六方氮化硼薄层，并且他们认为该方法能够低成本地实现规模化生产。该工艺采用了标准大气压下的化学气相沉积方法，使用的炉、温度和时间也并无过于特殊之处。不过Stehle称，这一工艺的特别之处在于“以更加温和、可控制的方式释放反应物到熔炉，并确定如何利用内部熔炉状态，而这两点通常被忽视”。
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